Tratamento da superfície do vidro comum através de microplasmas

  • Janaina Correa Nascimento Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
  • Eduardo Barbosa Aragão Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
  • Bogos Nubar Sismanoglu Instituto Tecnologico de Aeronáutica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Óptica e Espectroscopia
  • Rafael Santos da Silva União das Instituições de Ensino da Cidade de SP - UNIESP
  • Marcelo Pego Gomes Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
  • Vladir Wagner Ribas Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica
Palavras-chave: Microplasmas, Molhabilidade

Resumo

Os microplasmas são plasmas de laboratório gerados em orifícos com dimensões pequenas, da ordem de algumas centenas de micrometros. São operados em pressões moderadas e tambem na pressão atmosferica, sendo portanto versateis e faceis de produzir sem a necessidade de bomba mecanica de alto vacuo, além de poderem ser operados em paralelo. Nesta operação, grande numero de microplasmas podem ser acesos concomitantemente, aumentando a area de aplicação. Neste trabalho, microplasmas operados em paralelo e na pressão moderada de 40 Torr foram utilizados no tratamento de superficie de vidro, aumentando a sua molhabilidade e melhorando suas caracteristicas de adesão. O dispositivo de microplasma utilizado neste trabalho corresponde a uma matriz com 16 furos com diâmetro de 400µm cada. A intensidade de corrente elétrica usada foi de aproximadamente 2,5mA no modo de pré-descarga, na tensão de 380V e temperatura do gás de aproximadamente 500oC.

Biografia do Autor

Janaina Correa Nascimento, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
Aluna de mestrado do Depto de Fisica do ITA
Eduardo Barbosa Aragão, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
Aluno de doutorado do Depto de Fisica do ITA
Bogos Nubar Sismanoglu, Instituto Tecnologico de Aeronáutica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Óptica e Espectroscopia
Profesor do Depto. de Fisica do ITA, orientador de alunos de pós-graduação de mestrado e doutorado, supervisor de pós-doutorado, responsável pelo laboratório de óptica e espectroscopia do ITA.
Rafael Santos da Silva, União das Instituições de Ensino da Cidade de SP - UNIESP
Graduado em Tecnologia em Análise e Desenvolvimento de Sistemas pela UNIESP - União das Instituições de Ensino da Cidade de São Paulo, no ano de 2014. Pesquisador associado do LOE - Laboratorio de Optica e Espectroscopia do ITA, com experiência em tecnologias de desenvolvimento web em geral e em plataformas Wordpress e Joomla, atuação na montagem de layouts em CSS e Tableless.  Conhecimento em linguagem de programação PHP, CSS, JAVA, ABAP e HTML em ferramentas suíte Adobe CS5, FileZilla, EasyPHP, Apps da Google. Atualmente colabora num projeto web, sobre divulgação da ciência na web (www.fis.ita.br/~bogos).
Marcelo Pego Gomes, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica, Laboratorio de Optica e Espectroscopia
Pos-doutorando do Depto de Fisica do ITA
Vladir Wagner Ribas, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Departamento de Fisica

Colaborador do Depto de Fisica do ITA

Referências

Y. P. RAIZER, Gas Discharge Physics. New York, USA: Springer-Verlag, 1997.

X. AUBERT, G. BAUVILLE, J. GUILLON, B. LACOUR, V. PUECH, and

A. ROUSEAU, Analysis of the Self-Pulsing Operating Mode of a Microdischarge,

Plasma Source Science and Technology, vol. 16, pp. 23-32, nov. 2007.

P. LABOIRE, J. M. ROCARD, and J. A. REES, Electronic Cross-Sections and

Macroscopic Coecients, vol. 2. Ed. Dunod Paris, 1971.

C. PENACHE, M. MICLEA, A. BRAEUNING-DEMIAN, O. HOHN, S. SCHOESSLER, T. JAHNKE, K. NIEMAX, and H. SCHMIDT-BOECKING, Characterization of a High-Pressure Microdischarge using Diode Laser Atomic Absorption

Spectroscopy, Plasma Source Science and Technology, vol. 11, pp. 476-483, sep.

R. S. PESSOA, B. N. SISMANOGLU, J. AMORIM, H. S. MACIEL, and G. PETRACONI, Gas Discharges, Fundamentals and Applications, pp. 175-190. ed. J.

Amorim, Transworld Research Network, Kerala, India, cap. 7, Hollow Cathode

Discharges: Low and High-Pressure Operation, 2007.

F. IZA, et al., Microplasmas: Sources, Particles Kinetics, and Biomedical Applications, Plasma Process. Polym., vol. 5, pp. 322-344, 2008.

R. FOEST, M. SCHMIDT, and K. BECKER, Microplasmas, an Emerging Field

of Low-Temperature Plasma Science and Technology, International Journal of

Mass Spectrometry, vol. 248, pp. 87-102, dec. 2006.

EPJD The European Physical Journal D, Atomic, Molecular, Optical and Plasma

Physics, vol. 60, no. 3, 2010.

Z. FANG, X. QIU, Y. QIU, and E. KUFFEL, Dielectric Barrier Discharge in

Atmospheric Air for Glass-Surface Treatment to Enhance Hydrophobicity, IEEE

Trans. Plasma Sci., vol. 34, pp. 1216-1222, aug. 2006.

T. H. C. COSTA, M. C. FEITOR, C. ALVES JR, and C. M. BEZERRA, Caracterização de Filmes de Poliéster Modicados por Plasma de Gás Oxigênio à Baixa

Pressão, Revista Matéria, vol. 13, no. 1, pp. 65-76, 2008.

L. S. ALHANATI, Texto e Figuras Produzidos pelo Prof. L. S. Alhanati. http:

//alfaconnection.pro.br/pag_avsf/fqm0101.htm. Accessado em Dez. 2013.

P. K. YASUMURA, Caracterização de Propriedades de Papel para Impressão por

Jato de Tinta. Tese de Doutorado, Escola Politécnica da Universidade de São

Paulo, Departamento de Engenharia Química, São Paulo, SP, Brasil, 2012.

Y. H. CHOI, J. H. PAEK, W. T. JU, and Y. S. HWANG, Characteristics of Atmospheric Pressure N2 Cold Plasma Torch using 60-Hz AC Power and its Application to Polymer Surface Modication, Surf. Coat. Technol., vol. 193, pp. 319-324,

apr. 2005.

A. BOGAERTS, Eects to Oxygen Addition to Argon Glow Discharges: a Hybrid

Monte Carlo-Fluid Modeling Investigation, Spectrochimica Acta Part B, vol. 64,

pp. 1266-1279, oct. 2009.

A. V. PHELPS, Cross Section and Swarm Coecients for H+, H2 +, H3 +, H, H2 ,

and H− in H2 for Energies from 0.1eV to 10keV , Journal of Physical and Chemical

Reference Data, vol. 19, n. 3, pp. 653-690, jan. 1990.

A. V. PHELPS, Collisions of H+, H2 +, H3 +, ArH+, H−, H and H2 with Ar and

of Ar+ and ArH+ with H2 for energies from 0.1eV to 10keV , Journal of Physical

and Chemical Reference Data, vol. 21, n. 4, pp. 883-897, mar. 1992.

Publicado
2015-12-24
Edição
Seção
Artigos